ASML подготвя литография от ново поколение - Hyper NA ще намали размерите на елементите в чиповете с повече от 1/3 след 10 години

Наследникът на най-модерната технология на ASML за производство на чипове може да се появи след около 10 години - на мястото на High NA EUV ще дойде Hyper NA EUV. За това пишат в рецензирана статия инженери от нидерландската компания, както и служители на фирмата Carl Zeiss, която ѝ доставя оптика. Новата технология Hyper NA […]